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沸石转轮加催化燃烧装置 吸附脱附催化燃烧设计原理*、用材独特，性能稳定，结构简便，可靠，节能省力，无二次污染。设备占地面积小，重量轻。吸附床采用抽屉式结构，装填方便，便于更换， 自动控制系统的信号检测器设置于出气口处，对出气口的废气浓度进行自动检测，并将浓度数据传输给PLC控制器，PLC控制器根据传输数据发出控制指令，控制进气口上的进气阀门和催化燃烧进气阀门的自动开启、闭合，通过对活性炭吸附层的实时脱附实现活性炭吸附层的连续净化。为保证生产的连续运行，设有两套吸附脱附装置交替使用。 针对催化燃烧废气特点，首*行分类收集，先用设备对工艺产生的烟气进行处理，在多功能塔内对废气进行喷淋吸收，废气除味剂、吸收液、化工废气除臭剂与其进行充分反应，对VOCs气体进行一定的分解处理，在末端尾气处理器上，用有机废气催化剂进行光解催化氧化反应，对化工臭气进行催化裂解处理，对苯类尾气进行冷凝回收，整个除臭装置工艺设计合理，废气治理设施运行记录标明，净化效率一直保持在99%以上。对环境的污染治理有很大的帮助！
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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工业废气处理设备。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。 在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。 工业废气处理设备 特点：① 不需要高成本的化学药剂，运行稳定，耐腐蚀，耐负荷冲击能力大。② 针对特定有害气体成份驯化适当的微生物，提高单位容积的负荷率。③ 填料采用有机无机混合填料，比表面积大，孔隙率高，并可为微生物提供营养，可支撑大量不同种群微生物群。④ 填料活性介质的损失小、可减少能耗，降低运行费用。采用强化自然生物降解污染物，无二次污染物产生。VOC去除率高，对H2S的去除率可达99%。 PLC控制系统自动运行，无需人员管理。
